长春光机所目前正基于哈工大DPP-EUV光源研制EUV曝光机，预计两年内可推出。光刻机的两大核心部件为双工件台和曝光系统。
1、一种是DPP-EUV极紫外光源。放电激发等离子体EUV极紫外光源。荷兰ASML光刻机公司，哈工大研究的都是这一种。DPP EUV光源利用放电使负载（Xe或Sn）形成等离子体，辐射出紫外线，利用多层膜反射镜多次反射净化能谱，获得1EUV光。DPP EUV光源的优点是产生EUV的能量转换效率高，造价低；缺点是电极热负载高，产生碎片多，机制复杂，光学器件易于受损，光收集角小
2、激光等离子体光源(LPP)LPP EUV系统主要包括激光器、汇聚透镜、负载、光收集器、掩膜、投影光学系统和芯片。其原理是利用高功率激光加热负载(Xe或Sn)形成等离子体，等离子体辐射出紫外线，利用多层膜反射镜多次反射净化能谱，获得1EUV光。LPP EUV光源的优点是光源尺寸小，产生碎片或粒子的种类少，光收集效率高以及较容易放大EUV输出功率。当然它也有缺点，主要是系统设计复杂，价格昂贵。
这2种光源。哈工大都在15年前就研究了
哈尔滨工业大学的可调谐激光技术国家级重点实验室 。某些方面，可以傲视全球！
1、2009年研制成功大功率的著名的神光-3的靶场系统。
2、2017年全球首次实现4万公里高空卫星激光高通量双向传输通讯。
3、2018年研制出大功率的150瓦的DPP-EUV极紫外光源（全球2家之一）