超纯水设备推动半导体行业向着高效与环保道路发展

　　随着半导体工业的迅猛发展，对超纯水的要求和标准也在不断提升。特别是在制造集成电路时，即使是几个金属离子或灰尘颗粒也足以导致整个电路报废。因此，作为半导体工业中重要的电子化学试剂之一，超纯水的生产制备越来越受到重视。
　　目前，在市场上常见的超纯水工艺中，传统的离子交换工艺逐渐被反渗透工艺所取代。这是因为反渗透工艺无需树脂再生，能够实现24小时连续产水，并且在制水过程中不会产生废酸、废碱等有害排放物。莱特莱德公司推出的超纯水设备采用了先进的Ryperm技术反渗透装置，提升系统的出水水质。
工艺流程：
　　利用超滤膜去除水中的悬浮物及部分有机物，反渗透系统去除大部分溶解性固体，提高水质纯净度; TOC装置用于去除水中残留的有机碳化合物;EDI系统深度脱盐并去除微量离子;氮封系统通过充入氮气防止空气中的污染物进入系统;脱气系统排除水中可能存在的气体杂质;靶向离子交换可以针对难以去除的特定离子如硼进行定向吸附;终端过滤确保出水无任何微粒污染。
　　专门针对超纯水中难以处理的硼离子等进行高效去除，保证出水中的硼离子浓度稳定低于5ppt。整套系统集成度非常高，配备了双操作系统以增强稳定性。这使得即使是在长时间运行条件下也能保持高纯度超纯水的持续稳定产出，而无需因树脂再生等原因停机维护。此外，设备日常保养简便易行，具有较长的使用寿命。